PL | ENG

revitapark logo top

Karolina Czyż1, Marcin Szala1, Jacek Nycz1
1
Zakład Fizyki Chemicznej, Instytut Chemii, Uniwersytet Śląski w Katowicach

Pochodne 1,10-fenantroliny (o-fenantroliny) należą do najpopularniejszych przedstawicieli spośród grupy fenantrolin, do których należy łącznie 10 izomerów. Izomery te różnią się wzajemnym położeniem atomów azotu. To ważna grupa N-heterocykli oparta o szkielet węglowy fenantrenu. Cechą charakterystyczną jest kątowe połączenie pierścienia benzenu z dwoma skrajnymi pirydynowymi (Schemat 1).

struktura 110 fenantroliny

Schemat 1. Struktura 1,10-fenantroliny.

Pochodne 1,10-fenantroliny cechuje zdolność do koordynacji jonów metali, w tym jonów metali ciężkich [1]. Wykorzystywane są w syntezie kompleksów z metalami takimi jak: żelazo (II) czy miedź (I) [2].

Tlenek grafenu zbudowany jest z płaskich, podobnych do grafenu, podjednostek aromatycznych, różniących się rozmiarami i połączonych ze sobą w konfiguracji krzesełkowej. Posiada grupy hydroksylowe, epoksydowe, diolowe oraz ketonowe [3] (Rysunek 1).

struktura tlenku grafenu

Rysunek 1. Struktura tlenku grafenu potwierdzona zapomocą jądrowego rezonansu magnetycznego w ciele stałym (SSNMR) [4].

Jest tomateriał nieprzewodzący [5] używany jako prekursor do syntezy nanorurek węglowych [6]. To nowy typ sorbentu węglowego o bardzo dużej powierzchni właściwej [7].

Modyfikacja powierzchni tlenku grafenu jest możliwam.in. dzięki utworzeniu wiązań amidowych oraz estrowych pomiędzy powierzchnią materiału węglowego, a czynnikiem modyfikującym. Nowe materiały powinny charakteryzować się doskonałymi właściwościami sorpcyjnymi i mogą być wykorzystane jako próba otrzymania nowych i wydajnych materiałów filtracyjnych. 

Literatura

  1. P. G. Sammes, G. Yahioglu;Chemical Society Reviews, 1994, 327-334.
  2. P. Belser, S. Bernhard, U. Guerig;Tetrahedron, 1996, 52, 2937-2944.
  3. J. Shen, N. Li, M. Shi, Y. Hu, M. Ye;J. Colloid. Interf. Sci.,2010, 348, 377–383.
  4. Z. Yanwu, M. Shanthi,C. Weiwei, L. Xuesong,S. Ji Won, J. R. Potts, R. S. Ruoff;Adv. Mater.,2010, 22, 3906–3924.
  5. D. C. Marcano, D. V. Kosynkin, J. M. Berlin, A. Sinitskii, Z. Sun, A. Slesarev, L. B. Alemany, W. Lu, J. M. Tour;AmericanChemical Society, 2010, 4, 4806–4814.
  6. L.B. Casabianca, M. A. Shaibat, W.W. Cai, S. Park, R. Piner, R. S. Ruoff, Y. Ishii; J. Am. Chem. Soc., 2010, 132, 5672 – 5676.
  7. M.J. McAllister, J.L. Li, D.H. Adamson, H.C. Schniepp, A.A. Abdala, J. Liu, M. Herrera-Alonso, D.L. Milius, R. Car, R.K. Prud`home;I.A. Aksay; Chem. Mater., 2007, 19, 4396-4404.